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    發(fā)布時間:2023-4-25    本文被閱讀 :2965 次

    機(jī)械拋光、化學(xué)拋光、電解拋光、超聲波拋光、流體拋光、磁研磨拋光、化學(xué)機(jī)械拋光

    不銹鋼常用的幾種拋光方法

    一、機(jī)械拋光

    機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺等輔助工具,表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

    二、化學(xué)拋光

    化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。

    三、電解拋光

    電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步: (1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。(2)微光平整 陽極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。

    四、超聲波拋光

    將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠阻止腐蝕過程,利于表面光亮化。

    五、流體拋光

    流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅(qū)動,使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。

    六、磁研磨拋光

    磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質(zhì)量好,加工條件容易控制,工作條件好。采用合適的磨料,表面粗糙度可以達(dá)到Ra0.1μm。

    七、化學(xué)機(jī)械拋光

    化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)綜合了化學(xué)研磨和機(jī)械研磨的優(yōu)勢,是現(xiàn)在常用的拋光方法,連手機(jī)殼,取卡針,按鍵等都是用金鑫平面研磨機(jī)拋光的。可以在保證材料去除效率的同時,獲得較完美的表面,得到的平整度比單純使用這兩種研磨要高出1-2個數(shù)量級,并且可以實現(xiàn)納米級到原子級的表面粗糙度。而且拋光出來的鏡面效果亮度很高,沒有斷層,平面性好。一般用金鑫平面研磨機(jī)可以達(dá)到又快又好的效果。

    電解拋光電動車配件.JPG

     

    不銹鋼常用的幾種拋光方法
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